粒子成像測(cè)速原理和優(yōu)點(diǎn)

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       粒子成像測(cè)速原理和優(yōu)點(diǎn) 基本原理 在流場(chǎng)中布撒示蹤粒子，并用脈沖激光片光源入射到所測(cè)流場(chǎng)區(qū)域中，粒子成像測(cè)速通過連續(xù)兩次或多次曝光，粒子的圖像被記錄在底片上或CCD相機(jī)上。采用光學(xué)楊氏條紋法、自相關(guān)法或互相關(guān)法，逐點(diǎn)處理PIV底片或CC 記錄的圖像，獲得流場(chǎng)速度分布。因采用的記錄設(shè)備不同，又分別稱FPIV（用膠片作記錄）和數(shù)字式圖像測(cè)速DPW（用CCD相機(jī)作記錄）。優(yōu)點(diǎn) 粒子成像測(cè)速技術(shù)的突出優(yōu)點(diǎn)表現(xiàn)在：（1）是一種非接觸式流動(dòng)測(cè)量方法，突破了空間單點(diǎn)測(cè)量（如LDV）的局限性，實(shí)現(xiàn)了全流場(chǎng)瞬態(tài)測(cè)量；（2）實(shí)現(xiàn)了無擾測(cè)量，而用畢托管或HWFV等儀器測(cè)量時(shí)對(duì)流場(chǎng)都有一定的干擾；（3）容易求得流場(chǎng)的其他物理量，由于得到的是全場(chǎng)的速度信息，可方便的運(yùn)用流體運(yùn)動(dòng)方程求解諸如壓力場(chǎng)、渦量場(chǎng)等物理信息。因此，該技術(shù)在流體測(cè)量中占有重要的地位。 尊敬的客戶： 本公司還有層析成像系統(tǒng)、全場(chǎng)應(yīng)變DIC、相位多普勒粒子分析儀產(chǎn)品，您可以通過網(wǎng)頁本公司的服務(wù)電話了解更多產(chǎn)品的詳細(xì)信息，至善至美的服務(wù)是我們的追求，歡迎新老客戶放心選購自己心儀產(chǎn)品，我們將竭誠為您服務(wù)！